噴涂機產(chǎn)品及廠家

鵬城半導體 高真空電阻熱蒸發(fā)鍍膜機 PC-003
高真空電阻熱蒸發(fā)鍍膜機采用電阻熱蒸發(fā)技術，它是在高真空條件下，通過加熱材料的方法，在襯底上沉積各種化合物、混合物單層或多層膜？捎糜谏a(chǎn)和科學實驗，可根據(jù)用戶要求門訂制；可用于材料的物理和化學研究；可用于制備金屬導電電；可用于有機材料的物理化學性能研究實驗、有機半導體器件的原理研究實驗、oled實驗研究及有機太陽能薄膜電池研究實驗等。
更新時間:2025-11-13
鵬城半導體 高真空電子束蒸發(fā)鍍膜機 PC-004 真空度高、抽速快
高真空電子束蒸發(fā)鍍膜機是在高真空條件下，采用電子束轟擊材料加熱蒸發(fā)的方法，在襯底上鍍制各種金屬、氧化物、導電薄膜、光學薄膜、半導體薄膜、鐵電薄膜、超硬膜等；可鍍制混合物單層膜、多層膜或摻雜膜；可鍍各種高熔點材料。
更新時間:2025-11-13
供應 鵬城半導體 CVD熱絲金剛石設備
研發(fā)設計制造了熱絲cvd金剛石設備，分為實驗型設備和生產(chǎn)型設備兩類。設備主要用于微米晶和納米晶金剛石薄膜、導電金剛石薄膜、硬質(zhì)合金基金剛石涂層刀具、陶瓷軸承內(nèi)孔鍍金剛石薄膜等。例如可用于生產(chǎn)制造環(huán)保域污水處理用的耐腐蝕金剛石導電電。可用于平面工件的金剛石薄膜制備，也可用于刀具表面或其它不規(guī)則表面的金剛石硬質(zhì)涂層制備。
更新時間:2025-11-13
鵬城半導體 PECVD設備 PC-006
pecvd設備主要用于在潔凈真空環(huán)境下進行氮化硅和氧化硅的薄膜生長；采用單頻或雙頻等離子增強型化學氣相沉積技術，是沉積高質(zhì)量的氮化硅、氧化硅等薄膜的理想工藝設備。
更新時間:2025-11-13
鵬城半導體 LPCVD設備 PC-007
lpecvd是在低壓高溫的條件下，通過化學反應氣相外延的方法在襯底上沉積各種功能薄膜（主要是si3n4、sio2及poly硅薄膜）？捎糜诳茖W研究、實踐教學、小型器件制造。
更新時間:2025-11-13
鵬城半導體 MOCVD設備 PC-008
材料的輸運采取了超純的氣路系統(tǒng)，源的切換和輸入采用了多路組合閥進氣技術。由于組合閥具有小的死空間，使得源的殘留量非常少，有利于生長具有陡峭界面的材料。
更新時間:2025-11-13

最新產(chǎn)品

熱門儀器： 液相色譜儀 氣相色譜儀 原子熒光光譜儀 可見分光光度計 液質(zhì)聯(lián)用儀 壓力試驗機 酸度計（PH計） 離心機 高速離心機 冷凍離心機 生物顯微鏡 金相顯微鏡 標準物質(zhì) 生物試劑