掃描電子顯微鏡(SEM)產(chǎn)品及廠(chǎng)家

ZEISS 高分辨電子掃描顯微鏡
zeiss 高分辨電子掃描顯微鏡-evo 10,具備自動(dòng)化工作流程的高清晰掃描電鏡
更新時(shí)間:2025-09-23
日本電子JEOL場(chǎng)發(fā)射掃描電鏡
jsm-it800shl 是日本電子株式會(huì)社(jeol) 2020 年新推出的場(chǎng)發(fā)射掃描電鏡,它秉承 jeol 熱場(chǎng)發(fā)射掃描電鏡 jsm-7900f 的大束流,高穩(wěn)定性的傳統(tǒng),同時(shí)將分辨率提高到新的限,全新設(shè)計(jì)的超混合型物鏡,高分辨率的獲得以及磁性樣品的觀(guān)察都可以同時(shí)完成,而且標(biāo)配 jeol 新開(kāi)發(fā)的 neo
更新時(shí)間:2025-09-23
德Neaspec真空太赫茲波段近場(chǎng)光學(xué)顯微鏡
德neaspec真空太赫茲波段近場(chǎng)光學(xué)顯微鏡hv-thz-neasnom,該套系統(tǒng)成功地繼承了德國(guó)neaspec公司thz-neasnom的設(shè)計(jì)優(yōu)勢(shì),采用專(zhuān)利保護(hù)的雙光路設(shè)計(jì),完全可以實(shí)現(xiàn)真空環(huán)境下太赫茲波段應(yīng)用的樣品測(cè)量。hv-thz-neasnom在實(shí)現(xiàn)30nm高空間分辨率的同時(shí),由于采用0.1-3thz波段的時(shí)域太赫茲光源(thz-tds),也可以實(shí)現(xiàn)近場(chǎng)太赫茲成像和圖譜的同時(shí)測(cè)量。
更新時(shí)間:2025-09-23
太赫茲近場(chǎng)光學(xué)顯微鏡
thz-neasnom太赫茲近場(chǎng)光學(xué)顯微鏡 -30nm光學(xué)信號(hào)空間分辨率
更新時(shí)間:2025-09-23
德國(guó)KSI  型 全自動(dòng)晶圓超聲波缺陷檢測(cè)系統(tǒng)
德國(guó)ksi i-wafer型全自動(dòng)晶圓超聲波缺陷檢測(cè)系統(tǒng),在ksi i-wafer的探測(cè)下,晶圓中的孔隙、分層或者雜質(zhì)都能被發(fā)現(xiàn)。尺寸在450mm的多種晶圓也能進(jìn)行檢測(cè)
更新時(shí)間:2025-09-23
KSI 型全自動(dòng)晶錠分析檢測(cè)系統(tǒng)
ksi i-ingot型全自動(dòng)晶錠分析檢測(cè)系統(tǒng),適用于對(duì)晶錠的無(wú)損檢測(cè),有了它,晶錠內(nèi)部的裂縫或雜質(zhì)就能得到快速檢測(cè),晶錠的尺寸可達(dá)450mm,檢測(cè)時(shí)間短,也不需要做其它設(shè)定。
更新時(shí)間:2025-09-23
KSI高分辨率表層缺陷超聲波掃描顯微鏡系統(tǒng)
ksi-nano型高分辨率表層缺陷超聲波掃描顯微鏡系統(tǒng)聲學(xué)顯微成像系統(tǒng)和光學(xué)顯微成像系統(tǒng)的完美結(jié)合
更新時(shí)間:2025-09-23
德國(guó)KSI  雙探頭超聲波掃描顯微鏡系統(tǒng)
ksi v-duo 雙探頭超聲波掃描顯微鏡系統(tǒng),同時(shí)使用2只換能器
更新時(shí)間:2025-09-23
德國(guó)ZEISS蔡司聚焦離子束掃描電鏡FIB/SEM
德國(guó)zeiss蔡司聚焦離子束掃描電鏡fib/sem crossbeam 350,crossbeam 550
更新時(shí)間:2025-09-23
日本JEOL掃描電子顯微鏡
日本jeol掃描電子顯微鏡 jsm-it200 intouchscope ,是一款更簡(jiǎn)潔、更易于使用且性?xún)r(jià)比高的掃描電子顯微鏡。使用初學(xué)者易懂的樣品交換導(dǎo)航,可以輕松地從樣品臺(tái)搜索視野并開(kāi)始觀(guān)察sem圖像。zeromag能像光鏡一樣直觀(guān)地搜索視野,live analysis*2可以不用特意分析就能實(shí)時(shí)獲取元素分析結(jié)果,smile viewtm lab能綜合編輯觀(guān)察和分析報(bào)告等。
更新時(shí)間:2025-09-23
日本JEOL掃描電子顯微鏡
日本jeol掃描電子顯微鏡 jsm-it500hr,采用新開(kāi)發(fā)的高亮度電子槍和透鏡系統(tǒng),可以更迅速便捷地提供令人驚嘆的高分辨率圖像、高靈敏度和高空間分辨率;從設(shè)定視野到生成報(bào)告,利用完全集成的軟件大大地提高了作業(yè)速度。
更新時(shí)間:2025-09-23
日本JEOL熱場(chǎng)發(fā)射掃描電子顯微鏡
日本jeol熱場(chǎng)發(fā)射掃描電子顯微鏡 jsm-7900f
更新時(shí)間:2025-09-23
日本JEOL低溫冷凍離子切片儀
日本jeol低溫冷凍離子切片儀ib-09060cis,冷卻保持時(shí)間長(zhǎng),有效地抑制了熱損傷。易受熱損傷的樣品,也能方便地制作出薄膜樣品和截面樣品。
更新時(shí)間:2025-09-23
日本JEOL 離子切片儀
日本jeol 離子切片儀 em-09100is ,用于tem 、stem 、 sem 、 epma 和 auger樣品制備的創(chuàng)新方法 離子切片儀制備薄膜樣品比傳統(tǒng)制備工具快速、簡(jiǎn)單。低能量、低角度(0°到6°)的氬離子束通過(guò)遮光帶照射樣品,大大降低了離子束對(duì)樣品的輻照損壞。即使是柔軟的材料,制備的薄膜質(zhì)量也好,對(duì)不同成份的樣品甚至含有多孔合成物也都能夠有效制備。
更新時(shí)間:2025-09-23
日本JEOL截面樣品拋光儀
日本jeol截面樣品拋光儀ib-19530cp,采用多用途樣品臺(tái),通過(guò)交換各種功能性樣品座實(shí)現(xiàn)了功能的多樣化。根據(jù)需要可以選擇不同的功能性樣品座,不僅能截面刻蝕,還可以進(jìn)行平面刻蝕、離子束濺射鍍膜等。
更新時(shí)間:2025-09-23
日本JEOL截面樣品制備裝置
日本jeol截面樣品制備裝置ib-19530cp,采用多用途樣品臺(tái),通過(guò)交換各種功能性樣品座實(shí)現(xiàn)了功能的多樣化。根據(jù)需要可以選擇不同的功能性樣品座,不僅能截面刻蝕,還可以進(jìn)行平面刻蝕、離子束濺射鍍膜等。
更新時(shí)間:2025-09-23
日本JEOL 截面樣品拋光儀
日本jeol 截面樣品拋光儀 ib-19520ccp,在加工過(guò)程中利用液氮冷卻,能減輕離子束對(duì)樣品造成的熱損傷。冷卻持續(xù)時(shí)間長(zhǎng)、液氮消耗少的構(gòu)造設(shè)計(jì)。在裝有液氮的情況下,也能將樣品快速冷卻、恢復(fù)到室溫,并且可以拆卸。配有傳送機(jī)構(gòu),在隔離空氣的環(huán)境下能完成從加工到觀(guān)察的全過(guò)程。
更新時(shí)間:2025-09-23
日本JEOL 軟X射線(xiàn)分析譜儀
日本jeol 軟x射線(xiàn)分析譜儀,通過(guò)組合新開(kāi)發(fā)的衍射光柵和高靈敏度x射線(xiàn)ccd相機(jī),實(shí)現(xiàn)了高的能量分辨率。 和eds一樣可以并行檢測(cè),并且能以0.3ev(費(fèi)米邊處al-l基準(zhǔn))的高能量分辨率進(jìn)行分析,超過(guò)了wds的能量分辨率。
更新時(shí)間:2025-09-23
日本JEOL 電子探針顯微分析儀
日本jeol 電子探針顯微分析儀 jxa-ihp100,可以安裝通用性強(qiáng)、使用方便的能譜儀x射線(xiàn)探測(cè)器,組合使用wds和eds,能提供無(wú)縫、舒適的分析環(huán)境。
更新時(shí)間:2025-09-23
日本JEOL 聚焦離子束加工觀(guān)察系統(tǒng)
日本jeol 聚焦離子束加工觀(guān)察系統(tǒng) jib-4000,配置了高性能的離子鏡筒(單束fib裝置)。被加速了的鎵離子束經(jīng)聚焦照射樣品后,就能對(duì)樣品表面進(jìn)行sim觀(guān)察 、研磨,沉積碳和鎢等材料。還可以為tem成像制備薄膜樣品,為觀(guān)察樣品內(nèi)部制備截面樣品。通過(guò)與sem像比較,sim像能清楚地顯示出歸因于晶體取向不同的電子通道襯度差異,這些都非常適合于評(píng)估多層鍍膜的截面及金屬結(jié)構(gòu)。
更新時(shí)間:2025-09-23
日本JEOL 雙束加工觀(guān)察系統(tǒng)
日本jeol 雙束加工觀(guān)察系統(tǒng) jib-4700f,該設(shè)備的sem鏡筒中采用了超級(jí)混合圓錐形物鏡、gb模式和in-lens檢測(cè)器系統(tǒng),在1kv低加速電壓下,實(shí)現(xiàn)了1.6nm的保證分辨率,與最大能獲得300na探針電流的浸沒(méi)式肖特基電子槍組合,可以進(jìn)行高分辨率觀(guān)察和高速分析。
更新時(shí)間:2025-09-23
日本JEOL 能量色散型X射線(xiàn)熒光分析儀
日本jeol 能量色散型x射線(xiàn)熒光分析儀 jsx-1000s,采用觸控屏操作、提供更加簡(jiǎn)便迅速的元素分析。具備常規(guī)定性、定量分析(fp法・檢量線(xiàn)法)、rohs元素篩選功能等。利用豐富的硬件/軟件選配件、還能進(jìn)行更廣泛的分析。
更新時(shí)間:2025-09-23
日本電子掃描電子顯微鏡
日本電子掃描電子顯微鏡jcm-700強(qiáng)大的"zeromag"功能,讓您從光學(xué)顯微鏡的觀(guān)察方式,輕松的無(wú)縫接軌到掃描電鏡的影像觀(guān)察。"live analysis"則實(shí)現(xiàn)了sem影像觀(guān)察時(shí)實(shí)時(shí)的eds成份分析。
更新時(shí)間:2025-09-23
供應(yīng)蘇州日立TM4000Ⅱ掃描電鏡
日立tm4000ⅱ掃描電鏡獨(dú)特的低真空系統(tǒng)使得樣品不需任何處理即可快速進(jìn)行觀(guān)察。 tm4000ⅱ優(yōu)化提供5kv、10kv、15kv、20kv四種不同電壓下的觀(guān)察模式,每種模式下電流4檔可調(diào),并配備4分割背散射探測(cè)器,可采集四個(gè)不同方向的圖像信息,對(duì)樣品進(jìn)行多種模式成像。具有全新的sem-map導(dǎo)航功能,同時(shí),電鏡圖片可以報(bào)告形式導(dǎo)出。配備大型樣品倉(cāng),可容納大樣品直徑80mm,厚度50mm。
更新時(shí)間:2025-09-22
供應(yīng)蘇州日立FlexSEM1000 II鎢燈絲掃描電鏡
flexsem1000 ii是日立新的落地式小型鎢燈絲掃描電鏡,具有體積小、操作簡(jiǎn)單、性能強(qiáng)、擴(kuò)展功能豐富等特點(diǎn)。flexsem1000 ii配備了二次電子探測(cè)器和背散射電子探測(cè)器,可以觀(guān)察樣品的形貌和成分;同時(shí)具有低真空功能,可以直接觀(guān)察不導(dǎo)電樣品和含水樣品;配合新增的sem-map光鏡導(dǎo)航和5軸樣品臺(tái)可以快速、高效的完成觀(guān)察任務(wù)。
更新時(shí)間:2025-09-22
供應(yīng)日立SU9000新型超高分辨冷場(chǎng)發(fā)射掃描電鏡
日立2011年新推出了su9000超高分辨冷場(chǎng)發(fā)射掃描電鏡,達(dá)到掃描電鏡世界最高二次電子分辨率0.4nm和stem分辨率0.34nm。日立su9000采取了全新改進(jìn)的真空系統(tǒng)和電子光學(xué)系統(tǒng),不僅分辨率性能明顯提升,而且作為一款冷場(chǎng)發(fā)射掃描電鏡甚至不需要傳統(tǒng)意義上的flashing操作,可以高效率的快速獲取樣品超高分辨掃描電鏡圖像。 特點(diǎn): 1. 新型
更新時(shí)間:2025-09-22
供應(yīng)蘇州日立S-3400N掃描電子顯微鏡
s­-3400n掃描電子顯微鏡 s-3400n具有最新開(kāi)發(fā)的電子光學(xué)系統(tǒng),強(qiáng)大的自動(dòng)化功能,操作更簡(jiǎn)易。 特點(diǎn): 1. s-3400n具有強(qiáng)大的自動(dòng)功能,包括自動(dòng)燈絲飽和、4偏壓、自動(dòng)槍對(duì)中、自動(dòng)束流設(shè)定、 自動(dòng)合軸自動(dòng)聚焦和消像散、自動(dòng)亮度對(duì)比度等。 2. 在3kv低加速電壓時(shí)
更新時(shí)間:2025-09-22
供應(yīng)蘇州日立S-3700N 多功能分析型可變壓掃描電鏡
s-3700n 多功能分析型可變壓掃描電鏡 研究超大,超重,超高樣品的分析型掃描電鏡 ● 最大可載樣品直徑達(dá)300mm ●最大觀(guān)察區(qū)域直徑達(dá)203mm ● 在觀(guān)察110mm高樣品時(shí)可進(jìn)行能譜分析 ● 樣品室設(shè)置多種接口,可安裝eds、wds、ebsd和cl等多種分析用附件 ● 5軸優(yōu)中心馬達(dá)臺(tái)可以?xún)A
更新時(shí)間:2025-09-22
供應(yīng)蘇州日立TM4000Ⅱ掃描電鏡
日立tm4000ⅱ掃描電鏡獨(dú)特的低真空系統(tǒng)使得樣品不需任何處理即可快速進(jìn)行觀(guān)察。 tm4000ⅱ優(yōu)化提供5kv、10kv、15kv、20kv四種不同電壓下的觀(guān)察模式,每種模式下電流4檔可調(diào),并配備4分割背散射探測(cè)器,可采集四個(gè)不同方向的圖像信息,對(duì)樣品進(jìn)行多種模式成像。具有全新的sem-map導(dǎo)航功能,同時(shí),電鏡圖片可以報(bào)告形式導(dǎo)出。配備大型樣品倉(cāng),可容納大樣品直徑80mm,厚度50mm。
更新時(shí)間:2025-09-22
供應(yīng)蘇州日立FlexSEM1000 II鎢燈絲掃描電鏡
flexsem1000 ii是日立新的落地式小型鎢燈絲掃描電鏡,具有體積小、操作簡(jiǎn)單、性能強(qiáng)、擴(kuò)展功能豐富等特點(diǎn)。flexsem1000 ii配備了二次電子探測(cè)器和背散射電子探測(cè)器,可以觀(guān)察樣品的形貌和成分;同時(shí)具有低真空功能,可以直接觀(guān)察不導(dǎo)電樣品和含水樣品;配合新增的sem-map光鏡導(dǎo)航和5軸樣品臺(tái)可以快速、高效的完成觀(guān)察任務(wù)。
更新時(shí)間:2025-09-22
供應(yīng)蘇州日立TM4000Ⅱ掃描電鏡
日立tm4000ⅱ掃描電鏡獨(dú)特的低真空系統(tǒng)使得樣品不需任何處理即可快速進(jìn)行觀(guān)察。 tm4000ⅱ優(yōu)化提供5kv、10kv、15kv、20kv四種不同電壓下的觀(guān)察模式,每種模式下電流4檔可調(diào),并配備4分割背散射探測(cè)器,可采集四個(gè)不同方向的圖像信息,對(duì)樣品進(jìn)行多種模式成像。具有全新的sem-map導(dǎo)航功能,同時(shí),電鏡圖片可以報(bào)告形式導(dǎo)出。配備大型樣品倉(cāng),可容納大樣品直徑80mm,厚度50mm。
更新時(shí)間:2025-09-22
蔡司電腦斷層掃描測(cè)量機(jī)2022動(dòng)態(tài)已更新《采購(gòu)/推薦》
蔡司電腦斷層掃描測(cè)量機(jī)-多探頭測(cè)量機(jī)設(shè)備;工業(yè)計(jì)算機(jī)斷層掃描(ct)為您提供了quanxin的洞見(jiàn),讓您可以快速采集所有內(nèi)部結(jié)構(gòu)的體積。蔡司是快速ct的先驅(qū),并且能夠在生產(chǎn)周期中對(duì)組件進(jìn)行完整的以體積為基礎(chǔ)的檢查。
更新時(shí)間:2025-09-22
Verios XHR SEM  FEI Verios XHR SEM 掃描電子顯微鏡
fei verios xhr sem 掃描電子顯微鏡是 fei *的 xhr(*分辨率)sem 系列的第二代產(chǎn)品。在*半導(dǎo)體制造和材料科學(xué)應(yīng)用中,它可在 1 至 30 kv 范圍內(nèi)提供亞納米量級(jí)分辨率
更新時(shí)間:2025-09-19
Gemini  蔡司 Gemini SEM場(chǎng)發(fā)射掃描電子顯微鏡
蔡司 gemini sem場(chǎng)發(fā)射掃描電子顯微鏡二十多年來(lái),基于日漸完善的gemini技術(shù),geminisem具有完整高效的檢測(cè)系統(tǒng)、*的分辨率以及簡(jiǎn)便的操作方式。gemini物鏡設(shè)計(jì)將靜電場(chǎng)與磁場(chǎng)結(jié)合
更新時(shí)間:2025-09-19
SIGMA  蔡司 SIGMA高分辨率場(chǎng)發(fā)射掃描電子顯微鏡
蔡司 sigma高分辨率場(chǎng)發(fā)射掃描電子顯微鏡采用成熟的gemini光學(xué)系統(tǒng)設(shè)計(jì),分辨率超過(guò)0.8nm,為您提供zui高分辨率和*分析性能科研平臺(tái)。sigma500/vp專(zhuān)注于*的eds幾何學(xué)設(shè)計(jì)使您可
更新時(shí)間:2025-09-19
EVO MA  蔡司 EVO MA鎢燈絲掃描電子顯微鏡
蔡司 evo ma鎢燈絲掃描電子顯微鏡將鎢燈絲掃描電鏡的發(fā)展帶入了全新的時(shí)代,超大樣品室為各類(lèi)繁雜的樣品以及繁重的工作提供了輕松的解決方案,自動(dòng)化的5軸樣品臺(tái)和大的x、y、z軸跟蹤掃描以及可變壓力的檢
更新時(shí)間:2025-09-19
Nova Nano SEM  FEI Nova Nano SEM 場(chǎng)發(fā)射掃描電子顯微鏡
fei nova nano sem 場(chǎng)發(fā)射掃描電子顯微鏡該產(chǎn)品是世界上*款可以對(duì)有機(jī)材料、基板、多孔材料、塑料以及高聚物材料等有電荷積累的樣品和/或污染性樣品進(jìn)行超高分辨表征的低真空?qǐng)霭l(fā)射掃描電子顯微
更新時(shí)間:2025-09-19
Inspect  FEI Inspect系列 掃描電子顯微鏡
fei inspect系列 掃描電子顯微鏡滿(mǎn)足傳統(tǒng)高分辨率樣品研究所需的一切,簡(jiǎn)單易用的 inspecttm 專(zhuān)為滿(mǎn)足研究各類(lèi)材料以及表征材料結(jié)構(gòu)和成分的主流需求而設(shè)計(jì),配備高穩(wěn)定分辨率平臺(tái),可滿(mǎn)足大
更新時(shí)間:2025-09-19
蔡司 EVO MA鎢燈絲掃描電子顯微鏡
蔡司公司最新推出的sigma 500/vp場(chǎng)發(fā)射掃描電鏡采用成熟的gemini光學(xué)系統(tǒng)設(shè)計(jì),分辨率超過(guò)0.8nm,為您提供最高分辨率和最佳分析性能科研平臺(tái)。sigma500/vp專(zhuān)注于一流的eds幾何學(xué)設(shè)計(jì)使您可以獲取精湛的分析性能。借助sigma直觀(guān)便捷的四步工作流程可以快速成像、簡(jiǎn)化分析程序、提高工作效率。您會(huì)比以往更快、更多的獲取數(shù)據(jù)。多種探測(cè)器的選擇使sigma500/vp可以精準(zhǔn)的匹配您的應(yīng)用程序:您可以獲取微小粒子、表面、納米結(jié)構(gòu)、薄膜、涂層和多層的圖像信息!炯夹g(shù)參數(shù)】分辨率: 0.8nm @15 kv 1.6 nm @1kv
更新時(shí)間:2025-09-19
蔡司 Gemini SEM場(chǎng)發(fā)射掃描電子顯微鏡
二十多年來(lái),基于日漸完善的gemini技術(shù),geminisem具有完整高效的檢測(cè)系統(tǒng)、極高的分辨率以及簡(jiǎn)便的操作方式。gemini物鏡設(shè)計(jì)將靜電場(chǎng)與磁場(chǎng)結(jié)合,可在最大限度地提升光學(xué)性能的同時(shí)將場(chǎng)發(fā)射對(duì)樣品的損傷降至最低。此設(shè)計(jì)確保了極佳的成像質(zhì)量,即使是較具挑戰(zhàn)性的磁性材料也同樣可以達(dá)到良好的成像效果。通過(guò)二次電子和背散射電子的檢測(cè)也使得高效率的信號(hào)探測(cè)成為可能。探測(cè)器安裝在光軸上,可以減少調(diào)整時(shí)間,并可最大限度地降低成像時(shí)間。gemini電子束加速器技術(shù)確保了小的探針尺寸和高的信噪比,以達(dá)到超低的加速電壓!炯夹g(shù)參數(shù)】
更新時(shí)間:2025-09-19
FEI Inspect 掃描電子顯微鏡
nspecttm系列滿(mǎn)足傳統(tǒng)高分辨率樣品研究所需的一切,簡(jiǎn)單易用的 inspecttm 專(zhuān)為滿(mǎn)足研究各類(lèi)材料以及表征材料結(jié)構(gòu)和成分的主流需求而設(shè)計(jì),配備高穩(wěn)定分辨率平臺(tái),可滿(mǎn)足大多數(shù)研究的需要。簡(jiǎn)單易用的界面可實(shí)現(xiàn)準(zhǔn)確、快速的數(shù)據(jù)收集:將表面形貌和成分圖像與快速元素分析結(jié)合,確定材料特性及其化學(xué)元素組成。在眾多領(lǐng)域,高分辨率和高電流 feg 掃描電鏡的價(jià)值在于有助應(yīng)對(duì)生成高品質(zhì)圖像和實(shí)施快速分析的挑戰(zhàn)。
更新時(shí)間:2025-09-19
FEI Nova Nano SEM 場(chǎng)發(fā)射掃描電子顯微鏡
該產(chǎn)品是世界上di一款可以對(duì)有機(jī)材料、基板、多孔材料、塑料以及高聚物材料等有電荷積累的樣品和/或污染性樣品進(jìn)行超高分辨表征的低真空?qǐng)霭l(fā)射掃描電子顯微鏡(feg-sem)。作為fei公司引領(lǐng)市場(chǎng)的眾多設(shè)備中zui新的一員,nova nanosem為用戶(hù)在納米研究、開(kāi)發(fā)與生產(chǎn)的相關(guān)工作提供了更多的可能。 nova nanosem的出現(xiàn)為那些非導(dǎo)電的以及有污染的納米材料研究和開(kāi)發(fā)者們帶來(lái)了新的表征手段。與nanosem同時(shí)
更新時(shí)間:2025-09-19
FEI Magellan 極高分辨率掃描電子顯微鏡
全新的 magellan? 400 sem 是首款可在1-30 kv 電子能量范圍內(nèi)提供亞納米級(jí)分辨率的掃描電鏡,有效建立被稱(chēng)為 xhr 掃描電鏡的全新性能類(lèi)別。非凡的低加速電壓性能可提供其他技術(shù)根本無(wú)法實(shí)現(xiàn)的超高分辨率表面特定信息。在半導(dǎo)體和數(shù)據(jù)存儲(chǔ)市場(chǎng),magellan 前所未有的性能可大幅擴(kuò)展 sem 的功能,提供基礎(chǔ)研究、流程和材料開(kāi)發(fā)、流程控制以及故障分析所需的全面解決方案。它可實(shí)現(xiàn)快速高襯度成像,并具備大樣品或多樣品的亞納米級(jí)分辨率成像和全面分析
更新時(shí)間:2025-09-19
FEI Titan ETEM G2 透射電子顯微鏡
?titan etem g2 是我們專(zhuān)用的環(huán)境 tem 平臺(tái),設(shè)計(jì)用來(lái)觀(guān)測(cè)功能性納米材料及其隨著時(shí)間的推移對(duì)氣體和溫度刺激的響應(yīng)。憑借du一無(wú)二的差動(dòng)泵目鏡,標(biāo)本區(qū)可變身為實(shí)驗(yàn)室,展開(kāi)對(duì)催化劑微粒、納米器件和其他材料的研究,進(jìn)而在原子級(jí)別洞察表面和界面形態(tài)及相互作用。在需要時(shí),titan etem 還可作為標(biāo)準(zhǔn) s/tem 開(kāi)展原子級(jí)別成像。- 化學(xué)成分和價(jià)鍵狀態(tài)研究
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FEI  Apreo 場(chǎng)發(fā)射掃描電子顯微鏡
apreo 復(fù)合透鏡設(shè)計(jì)結(jié)合了靜電和磁浸沒(méi)技術(shù),可產(chǎn)生前所未有的高分辨率和信號(hào)選擇。這使得 apreo 成為研究納米顆粒、催化劑、粉末和納米器件的理想平臺(tái),并且不會(huì)降低磁性樣品性能。apreo 受益于獨(dú)特的透鏡內(nèi)背散射探測(cè),這種探測(cè)提供卓越的材料對(duì)比度,即使在傾斜、工作距離很短或用于敏感樣品時(shí)也不例外。新型復(fù)合透鏡通過(guò)能量過(guò)濾進(jìn)一步提高了對(duì)比度并增加了用于絕緣樣品成像的電荷過(guò)濾。可選低真空模式,現(xiàn)在的zui大樣品倉(cāng)壓力為 500 pa,可以對(duì)要求zui嚴(yán)苛的絕緣體進(jìn)行成像。通過(guò)這些優(yōu)勢(shì)(包括復(fù)合末級(jí)透鏡、高級(jí)探測(cè)和靈活樣品處理),apreo 可提供出色的性能和多功能性,幫助您應(yīng)對(duì)未來(lái)的研究難題。
更新時(shí)間:2025-09-19
FEI Talos F200系列 透射電子顯微鏡
fei talos f200x 融合了出色的高分辨率掃描/透射電子顯微鏡 (stem) 和 tem 成像功能與行業(yè)ling先的能量色散 x 射線(xiàn)光譜儀 (eds) 信號(hào)檢測(cè)功能及基于成分測(cè)繪的三維化學(xué)表征功能。talos f200x 可在所有維度 (1d-4d) 下實(shí)現(xiàn)zui快速、zui精確的 eds 分析,以及zui好且支持快速導(dǎo)航的動(dòng)態(tài)顯微鏡 hrtem 成像。fei talos f200x 融合了出色的高分辨率掃描/透射電子顯微鏡 (stem) 和 tem 成像功能與行業(yè)ling先的能量色散 x 射線(xiàn)光譜儀 (eds)。talos f200s 在 stem 成像上具有極大的多功能性和極高的通量。它可以為動(dòng)態(tài)顯微鏡實(shí)現(xiàn)zui精確的 eds 分析和zui好的 hrtem。與此同時(shí),fei talos f200s 還提供zui高的穩(wěn)定性和最長(zhǎng)的正常運(yùn)行時(shí)間。
更新時(shí)間:2025-09-19
Apreo  FEI SEM Apreo 掃描電子顯微鏡
fei sem apreo 掃描電子顯微鏡革命性的復(fù)合透鏡設(shè)計(jì)結(jié)合了靜電和磁浸沒(méi)技術(shù),可產(chǎn)生*的高分辨率和信號(hào)選擇。這使得 apreo 成為研究納米顆粒、催化劑、粉末和納米器件的理想平臺(tái),并且不會(huì)降低
更新時(shí)間:2025-09-19
Magellan400/460  FEI MagellanTM系列掃描電子顯微鏡
fei magellantm系列掃描電子顯微鏡界: 高靈敏的表面圖像、以及俯視或從其它角度觀(guān)看圖像,分辨率可達(dá)到一納米以下。 這款電鏡上的一些重要突破在于它鏡筒上采用了革命性的單色槍技術(shù),它使顯微學(xué)家
更新時(shí)間:2025-09-19
Quanta 系列  FEI Quanta系列 掃描電子顯微鏡
fei quanta系列 掃描電子顯微鏡包括6個(gè)變量的壓力和環(huán)境掃描電子顯微鏡(esem™)和兩個(gè)dualbeam™系統(tǒng),所有這些都可以容納多個(gè)樣品和工業(yè)過(guò)程控制實(shí)驗(yàn)室,材料科
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FEI Quanta系列 環(huán)境掃描電子顯微鏡
要特點(diǎn):1.fei esem(環(huán)境掃描電鏡)技術(shù), 可在高真空、低真空和環(huán)境真空條件下對(duì)各種樣品進(jìn)行觀(guān)察和分析。2.所有真空條件下的二次電子、背散射電子觀(guān)察和微觀(guān)分析。3.先進(jìn)的系統(tǒng)結(jié)構(gòu)平臺(tái),全數(shù)字化系統(tǒng)。
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