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 您的位置：阿儀網(wǎng)首頁(yè) > 產(chǎn)品庫(kù) > 實(shí)驗(yàn)室設(shè)備 > 制樣消解設(shè)備 > 離子濺射儀

產(chǎn)品屬性

共 36 件相關(guān)產(chǎn)品

已選條件：
離子濺射儀
所在地區(qū)
所有企業(yè)性質(zhì)
共找到36條 產(chǎn)品信息
德國(guó)sindlhauser濺射靶材
所在地: 其他 其他
￥電議
更新時(shí)間：2025-6-13
赫爾納貿(mào)易（大連）有限公司

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第 10 年
自 1995 年以來(lái)，sindlhauser materials 一直在為各地的工業(yè)公司提供種類(lèi)繁多的涂層材料，例如由氧化物和非氧化物陶瓷或結(jié)合稀土金屬制成的濺射靶材，以及金屬和合金。該公司還支持使用等離子技術(shù)為各種產(chǎn)品鍍膜的行業(yè)運(yùn)營(yíng)。
卷繞式濺射設(shè)備
所在地: 其他 其他
￥電議
更新時(shí)間：2025-6-13
深圳市矢量科學(xué)儀器有限公司

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第 3 年
卷繞式濺射設(shè)備spw系列spw系列設(shè)備，是可在塑料薄膜上進(jìn)行光學(xué)膜、金屬膜等多層成膜的卷繞式設(shè)備。實(shí)施成膜室間的氣氛分隔，可以使高性能的多層膜一次性成膜。
MC1000 日立高新磁控濺射器
所在地: 其他 其他
￥電議
更新時(shí)間：2025-5-22
武漢市艾德寶儀器設(shè)備有限公司

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第 4 年
日立高新磁控濺射器mc1000日立高新磁控濺射器（hitachi ion sputter )mc1000采用了電磁管電極，能夠限度地減輕對(duì)樣品的損壞，并在樣品表面涂覆一層均勻粒子。適用于高分辨率的掃描
全自動(dòng)真空離子濺射儀噴金儀 磁控濺射鍍膜導(dǎo)電處理
所在地: 上海 上海市
￥100000.0.00
更新時(shí)間：2025-6-16
第 0 年
全自動(dòng)真空離子濺射儀噴金儀 磁控濺射鍍膜導(dǎo)電處理優(yōu)勢(shì)看得見(jiàn)：雙路氣體接入兩種氣體自由接入；全自動(dòng)手動(dòng)雙模式，全自動(dòng)手動(dòng)雙模式，即可一鍵工作，也可自由設(shè)定；真空腔體加厚，真空腔體加厚可承受更大的真空度；人機(jī)界面觸控屏，人機(jī)界面觸控屏，方便操作，減少控制失誤。
鍍膜儀JY-S100
所在地: 廣東 其他
￥電議
更新時(shí)間：2025-6-13
第 0 年
jy-s100磁控離子濺射儀是一款結(jié)構(gòu)緊湊的桌面小型鍍膜系統(tǒng)，特別適用于掃描電鏡成像中非導(dǎo)電樣品高質(zhì)量鍍膜。
日立高新磁控濺射器MC1000
所在地: 其他 其他
￥電議
更新時(shí)間：2025-6-6
第 0 年
日立高新磁控濺射器（hitachi ion sputter )mc1000采用了電磁管電極，能夠最大限度地減輕對(duì)樣品的損壞，并在樣品表面涂覆一層均勻粒子。適用于高分辨率的掃描式電子顯微鏡。日立高新磁控濺射器（hitachi ion sputter )mc1000的最大樣品直徑：60 mm日立高新磁控濺射器（hitachi ion sputter )mc1000的最大樣品高度：20 mm
陰離子洗滌劑測(cè)定儀
所在地: 上海 其他
￥電議
更新時(shí)間：2025-6-6
第 0 年
jc516-yl2a 陰離子洗滌劑檢測(cè)儀適用于大、中、小型水廠及工礦企業(yè)、生活或工業(yè)用水，以便控制水達(dá)到規(guī)定的水質(zhì)標(biāo)準(zhǔn)。
Q150T ES PLUS高真空離子濺射鍍膜儀
所在地: 其他 其他
￥電議
更新時(shí)間：2025-6-5
第 0 年
q150t es plus高真空離子濺射鍍膜儀裝在一個(gè)堅(jiān)固的特制整體成型機(jī)箱中，包括空氣冷卻的70l/s渦輪分子泵。自動(dòng)進(jìn)氣控制保證了鍍膜期間最佳的真空條件。
廣州儀弘IT-10固體負(fù)離子測(cè)試儀
所在地: 其他 其他
￥電議
更新時(shí)間：2025-6-5
第 0 年
廣州儀弘it-10固體負(fù)離子測(cè)試儀it-10采用美國(guó)最先進(jìn)的gm射線離子探測(cè)技術(shù)，來(lái)測(cè)量從天然礦石、陶瓷、電氣石等所產(chǎn)生的微弱放射線能量，通過(guò)大量實(shí)驗(yàn)數(shù)據(jù)積累和精密的換算，將放射線能量運(yùn)用最先進(jìn)的處理程序換算成負(fù)離子數(shù)量，此方法可以得到非常精準(zhǔn)的測(cè)量。
高量程便攜式錳離子儀（0-1.0mg/L），便攜式錳離子儀
所在地: 北京 北京市
￥電議
更新時(shí)間：2025-6-5
第 0 年
錳離子測(cè)試儀適用于大、中、小型水廠及工礦企業(yè)、生活或工業(yè)用水的鉻濃度檢測(cè)，以便控制水的錳達(dá)到規(guī)定的水質(zhì)標(biāo)準(zhǔn)。
上海到西安物流公司A
所在地: 上海 上海
￥400.0.00
更新時(shí)間：2025-6-5
第 0 年
上海到西安物流公司 從上海貨運(yùn)到西安需要多少錢(qián)？貨運(yùn)公司哪家好?推薦西安物流400-697-cc，兢兢業(yè)業(yè)，風(fēng)雨無(wú)阻，公司專(zhuān)業(yè)承接；
離子分析儀
所在地: 上海 上海
￥電議
更新時(shí)間：2025-6-5
第 0 年
儀器儲(chǔ)存了多種常用的離子模式如：h+、ag+、na+、k+、nh4+、cl-、f-、no3-、bf4-、cn-、cu2+、pb2+、ca2+等。測(cè)量濃度單位在(0.000～19990)mg/l、mol/l、px相互轉(zhuǎn)換。
瑞士Safematic電鏡制樣設(shè)備CCU-010 HV高真空離子濺射/鍍碳一體化鍍膜儀
所在地: 國(guó)外 國(guó)外
￥電議
更新時(shí)間：2025-6-3
第 0 年
緊湊型、模塊化和智能化ccu-010 hv為一款結(jié)構(gòu)緊湊、全自動(dòng)型的高真空離子濺射和蒸發(fā)鍍碳一體化鍍膜儀，使用非常簡(jiǎn)便。采用獨(dú)特的插入式設(shè)計(jì)，通過(guò)簡(jiǎn)單地變換鍍膜頭就可輕松配置為濺射或蒸鍍?cè)O(shè)備。在鍍膜之和/或之后，可以進(jìn)行等離子處理。模塊化設(shè)計(jì)可輕松避免金屬和碳沉積之間的交叉污染。ccu-010標(biāo)配膜厚監(jiān)測(cè)裝置。
Shimadzu島津TMP-2203LM磁懸浮分子泵維修|真空設(shè)備化工泵保養(yǎng)|二手進(jìn)口泵浦
所在地: 廣東 深圳市
￥電議
更新時(shí)間：2025-4-29
第 0 年
金華杰維修 shimadzu turbo pump controllers日本島津ei/fti全系列渦輪分子泵控制器、磁懸浮分子泵控制器，分子泵電源，分子泵驅(qū)動(dòng)器，經(jīng)驗(yàn)豐富，檢測(cè)設(shè)備齊全，技術(shù)可靠，有多種型號(hào)備用分子泵及控制器，分子泵維修配件，二手分子泵（中古泵浦）并免費(fèi)提供相關(guān)技術(shù)支持。
桌面式濺射儀
所在地: 河南 鄭州市
￥電議
更新時(shí)間：2025-4-3
第 0 年
桌面式濺射儀kt-z1650pvd是一款高度集成化智能化的臺(tái)式磁控濺射系統(tǒng)。體積小巧，但是功能出色、配置齊全。配有水冷靶，自動(dòng)樣品擋板，可調(diào)節(jié)濺射源距離，觸摸屏控制，工藝儲(chǔ)存等功能，方便快捷。
NSC-1000 磁控濺射系統(tǒng)
所在地: 其他 其他
￥電議
更新時(shí)間：2025-1-6
第 0 年
nsc-1000磁控濺射系統(tǒng)概述：帶有水冷或者加熱(最高可加熱到700度)功能，最大到6"旋轉(zhuǎn)平臺(tái)，最大可支持到2個(gè)偏軸平面磁控管。系統(tǒng)配套渦輪分子泵，極限真空可達(dá)10-7 torr，15分鐘內(nèi)可以達(dá)到10-6 torr的真空。通過(guò)調(diào)整磁控管與基片之間的距離，可以獲得想要的均勻度和沉積速度。
離子濺射儀磁控濺射真空鍍膜機(jī)小型離子濺射儀
所在地: 河南 鄭州市
￥電議
更新時(shí)間：2024-4-10
第 0 年
磁控離子濺射儀為掃描電鏡用戶(hù)在制樣過(guò)程中提供了更廣泛的選擇，以便適用支持掃描電子顯微鏡所需的涂層要求。磁控濺射的原理是，在電場(chǎng)內(nèi)在疊加一個(gè)磁場(chǎng)，這樣電子在疊加場(chǎng)內(nèi)做螺旋運(yùn)動(dòng)，行程很長(zhǎng)，每個(gè)電子電離的氣體分子比直流多很多很多，所以可以在低電壓下，有較好的真空度。
KT-Z1650PVD 鄭科探 小型離子濺射儀
所在地: 其他 其他
￥電議
更新時(shí)間：2023-9-8
第 0 年
     鄭科探 小型離子濺射儀kt-1650pvd是一款小型臺(tái)式濺射功率可控磁控濺射儀，儀器雖小功能齊全，配備有電壓 電流反饋,樣品臺(tái)旋轉(zhuǎn)，樣品高度調(diào)節(jié)，及電動(dòng)擋板功能
離子濺射儀
所在地: 廣東 深圳市
￥電議
更新時(shí)間：2022-10-31
第 0 年
離子濺射儀mc1000采用磁控型電，大限度地減輕對(duì)樣品的損壞。
離子濺射儀
所在地: 廣東 深圳市
￥電議
更新時(shí)間：2021-12-20
第 0 年
離子濺射儀hsr-230主要用于掃描電子顯微鏡樣品鍍覆導(dǎo)電膜（金膜），儀器操作簡(jiǎn)單方便，是配合 sem 制樣必備的儀器。
小型磁控濺射儀JS-1600M
所在地: 其他 其他
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更新時(shí)間：2020-6-11
第 0 年
js-1600m型磁控濺射儀是依據(jù)二極(dc)直流濺射原理設(shè)計(jì)而成的，最簡(jiǎn)單、可靠、經(jīng)濟(jì)的鍍膜設(shè)備。適用于電鏡實(shí)驗(yàn)室的掃描電子顯微鏡（sem）樣品制備，非導(dǎo)體材料實(shí)驗(yàn)電極制作。
Cressington 離子濺射儀
所在地: 其他 其他
￥電議
更新時(shí)間：2020-5-26
第 0 年
自動(dòng)的換氣與泄氣功能，可以得到一致的膜厚，和最佳的導(dǎo)電噴鍍效果。通過(guò)高效低壓直流磁控頭進(jìn)行冷態(tài)精細(xì)的噴鍍過(guò)程，避免樣品表面受損。操作容易快捷，可全自動(dòng)或手動(dòng)進(jìn)行噴鍍操作，控制的參數(shù)包括自動(dòng)放氣以及氬氣換氣控制。在自動(dòng)模式下，可通過(guò)兩種方式進(jìn)行控制鍍膜過(guò)程�？赏ㄟ^(guò)數(shù)字顯示器控制得到可重現(xiàn)的噴鍍效果�？膳鋫鋗tm-10高分辨膜厚監(jiān)控儀（選件）(分辨率優(yōu)于0.1nm，-99.9nm到+999.9nm)數(shù)字化的噴鍍電流控制不受樣品室內(nèi)氬氣壓力影響，可得到一致的鍍膜速率和最佳的鍍膜效果�？墒褂枚喾N金屬靶材：au， au/pd,，pt,，pt/pd，ag等，靶材更換快速方便。
EMS 150T Plus高真空離子濺射儀
所在地: 其他 其他
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更新時(shí)間：2020-5-26
第 0 年
ems 150t plus為緊湊的分子渦輪泵鍍膜系統(tǒng)，適合sem、tem及許多薄膜應(yīng)用。ems 150t plus 集成了濺射和碳蒸鍍兩種沉積鍍膜功能的高分辨鍍膜系統(tǒng)
濺射設(shè)備 MVS
所在地: 其他 其他
￥電議
更新時(shí)間：2020-5-26
第 0 年
mvs提供單靶材或多靶濺射設(shè)備�？筛鶕�(jù)用戶(hù)需求定制。制備透明導(dǎo)電薄膜 (如ito，azo)。
英國(guó)Prima離心機(jī)-上海坤科代理銷(xiāo)售
所在地: 上海 上海
￥電議
更新時(shí)間：2020-5-25
第 0 年
palm mini離心機(jī)是一款手掌型個(gè)人離心機(jī)。其提供多種適配器更換轉(zhuǎn)子, 性能可靠，操作簡(jiǎn)單方便，是微型離心管和pcr管快速離心的理想設(shè)備。蓋上蓋子，轉(zhuǎn)頭瞬間達(dá)到7000rpm,打開(kāi)蓋子，轉(zhuǎn)子迅速減速至停止，方便快速取走樣品。
MagSput 磁控濺射系統(tǒng)
所在地: 其他 其他
￥電議
更新時(shí)間：2020-5-7
第 0 年
torr international, inc(拓爾國(guó)際)magsput系列磁控濺射系統(tǒng) magsput磁控濺射系統(tǒng)是新一代磁控濺射系統(tǒng)，該款產(chǎn)品以其實(shí)用性強(qiáng)、定制和擴(kuò)展功能齊全而著稱(chēng)于世，廣泛應(yīng)用于全球許多r&d實(shí)驗(yàn)室、大學(xué)研究、中試以及小規(guī)模生產(chǎn)中。緊湊型設(shè)計(jì)使得該款產(chǎn)品成為超凈室的理想選擇。該系統(tǒng)提供多種選件，如濺射槍的數(shù)量和尺寸，電源功率大小等。真空腔有多個(gè)備用端口，可用來(lái)增加磁控槍、熱阻源或電子束蒸發(fā)源。典型應(yīng)用包括納米技術(shù)、光學(xué)儀器、顯微鏡、分子束外延、功能薄膜和裝飾性涂層等。
單離子注入(SII)
所在地: 其他 其他
￥電議
更新時(shí)間：2020-4-1
第 0 年
nano analytik公司成立于2010年4月，技術(shù)源自德國(guó)伊爾梅瑙科技大學(xué)，公司的核心競(jìng)爭(zhēng)力在于傳感器、微系統(tǒng)和控制技術(shù)，公司宗旨是讓納米分析技術(shù)簡(jiǎn)單化，在保證科研嚴(yán)謹(jǐn)性的同時(shí)提高科研效率。
小型離子濺射儀ETD-900
所在地: 其他 其他
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更新時(shí)間：2020-3-10
第 0 年
etd-900 型離子濺射儀外觀亮麗，做工精致，旋鈕式定時(shí)器檔位清晰，手感舒適；特殊定制的真空指示和電流指示表頭沉穩(wěn)大氣，具有歐洲典雅風(fēng)范；前面板上的微泄漏氣閥門(mén)可以連接多種氣體；調(diào)節(jié)濺射電流大小，成膜速度快，質(zhì)量好；功能控制和定時(shí)皆由cpu調(diào)度，使用范圍廣。
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