場發(fā)射掃描電鏡產(chǎn)品及廠家

場發(fā)射掃描透射電子顯微鏡
jem-f200 場發(fā)射透射電子顯微鏡,以節(jié)能環(huán)保、減排低碳為理念開發(fā)的jem-f200場發(fā)射透射電子顯微鏡,不僅提高了空間分辨率和分析性能,還采用了新的操作系統(tǒng)可滿足多種使用途徑,易用性強,外觀設(shè)計精煉,能為不同層次的用戶提供新奇的操作體驗。
更新時間:2025-08-01
德國Zeiss 場發(fā)射電子顯微鏡
德國zeiss場發(fā)射電子顯微鏡sigma 300 ,專利gemini鏡筒,超高的束流穩(wěn)定性, 卓越的低電壓性能,in lens 探測器,磁性材料高分辨觀察。
更新時間:2025-08-01
美國FEI 掃描電鏡
thermo scientific helios 5 d ualbeam 產(chǎn)品系列憑借其最先進的聚焦離子束和電子束性能、專有軟件、自動化和易用性特征,重新定義了樣品制備和三維表征的標(biāo)準(zhǔn)。
更新時間:2025-08-01
蔡司 SIGMA高分辨率場發(fā)射掃描電鏡
蔡司公司最新推出的sigma 500/vp場發(fā)射掃描電鏡采用成熟的gemini光學(xué)系統(tǒng)設(shè)計,分辨率超過0.8nm,為您提供最高分辨率和最佳分析性能科研平臺。sigma500/vp專注于一流的eds幾何學(xué)設(shè)計使您可以獲取精湛的分析性能。借助sigma直觀便捷的四步工作流程可以快速成像、簡化分析程序、提高工作效率。您會比以往更快、更多的獲取數(shù)據(jù)。多種探測器的選擇使sigma500/vp可以精準(zhǔn)的匹配您的應(yīng)用程序:您可以獲取微小粒子、表面、納米結(jié)構(gòu)、薄膜、涂層和多層的圖像信息!炯夹g(shù)參數(shù)】分辨率: 0.8nm @15 kv 1.6 nm @1kv
更新時間:2025-07-31
【Hitachi】冷場發(fā)射掃描電鏡Regulus8100
【hitachi】冷場發(fā)射掃描電鏡regulus8100易維護、易操作等優(yōu)點,進一步提高性能,1kv減速模式下最高分辨率達到了0.8nm,15kv達到0.7nm,高低電壓均可滿足高分辨的觀察。
更新時間:2025-07-31
【Hitachi】日立高性能鎢燈絲掃描電鏡SU3500
【hitachi】日立高性能鎢燈絲掃描電鏡su3500通過高畫質(zhì)提升掃描電鏡的分析能力和操作性, 凝聚日立最先進科技“獨具匠心”。
更新時間:2025-07-31
【Hitachi】日立新型熱場發(fā)射掃描電鏡SU5000
【hitachi】日立新型熱場發(fā)射掃描電鏡su5000高穩(wěn)定性熱場發(fā)射電子槍, 全新的em wizard軟件,無需設(shè)置參數(shù)即可獲得高質(zhì)量圖片,高分辨率和強大的分析能力,樣品適用性強:不導(dǎo)電樣品直接觀察(低真空功能,10-300pa)
更新時間:2025-07-31
日立新型鎢燈絲掃描電鏡FlexSEM1000 II
日立新型鎢燈絲掃描電鏡flexsem1000 ii 體積小、操作簡單、性能強(4nm@20kv)、擴展功能豐富2. 擁有多個探測器(se、bse)3. 擁有低真空功能,不導(dǎo)電和含水樣品直接觀察
更新時間:2025-07-31
AeroSurf1500
aerosurf1500可在大氣壓(105pa)下得到sem圖像;2、臺式掃描電鏡設(shè)計;3、低真空下成分分析;4、優(yōu)質(zhì)的圖像處理控制;
更新時間:2025-07-31
日立L型FIB-SEM-Ar三束系統(tǒng)NX9000
日立l型fib-sem-ar三束系統(tǒng)nx9000能夠獲得一系列的截面圖像,從而實現(xiàn)特定顯微切片的三維結(jié)構(gòu)分析。nx9000中的sem鏡筒和fib鏡筒呈正交結(jié)構(gòu),而不是常見的對角構(gòu)造。
更新時間:2025-07-31
日立最新熱場掃描電鏡SU7000
日立最新熱場掃描電鏡su7000
更新時間:2025-07-31
日立高分辨型雙束系統(tǒng)NX5000
日立高分辨型雙束系統(tǒng)nx5000可以避免樣品損傷,為超薄樣品和復(fù)雜的制備提供了新的解決方案,可以滿足納米材料、半導(dǎo)體材料、生物材料等多種樣品的快速、無損、精細(xì)加工。
更新時間:2025-07-31
電子束閘
電子束閘為日立臺式電鏡和大型掃描電鏡提供了多種附件,包括馬達臺、加熱臺、冷臺、傾斜旋轉(zhuǎn)臺、電子束閘、cl探測器、stem探測器等。
更新時間:2025-07-31
日立全新大型鎢燈絲掃描電鏡SU3900
日立全新大型鎢燈絲掃描電鏡su3900采用超大的樣品倉和多接口設(shè)計,適合超大樣品的觀察(直徑300mm)以及多種分析功能的拓展。同
更新時間:2025-07-31
場發(fā)射掃描電子顯微鏡
"regulus系列"是日立高新技術(shù)的fe-sem的全新品牌,包括作為su8010的后續(xù)機型開發(fā)的 "regulus8100" 以及su8200系列的升級 "regulus8220" "regulus8230" "regulus8240",共4個機型,均實現(xiàn)了分辨率和操作性的強化。
更新時間:2025-07-31
【Hitachi】日立新型臺式掃描電鏡TM4000plus
【hitachi】日立新型臺式掃描電鏡tm4000plus可在樣品倉內(nèi)加裝光學(xué)相機來拍攝照片,以往通過經(jīng)驗尋找目標(biāo)位置*1,現(xiàn)在可在顯示屏上直接操作。在拍攝sem圖像時,由于“tm4000”和“tm4000plus”配置雙軸馬達臺*2,原來需手動調(diào)整的操作,現(xiàn)在只需在顯示器上選擇要觀察的位置即可。
更新時間:2025-07-31
【Hitachi】日立120kV透射電鏡HT7800
【hitachi】日立120kv透射電鏡ht7800 很好地繼承了日立120kv-tem的基本理念,兼顧低倍率與寬視野觀察、高襯度與高分辨率觀察,可在同一儀器上一鍵切換等。集高襯度和高分辨兩種模式于一體,可同時滿足軟材料/納米材料類和生命科學(xué)類客戶對電鏡的需求。
更新時間:2025-07-31
【Hitachi】S-3700N 超大樣品倉掃描電鏡
【hitachi】s-3700n 超大樣品倉掃描電鏡
更新時間:2025-07-31
【Hitachi】SU9000新型超高分辨冷場發(fā)射掃描電鏡
【hitachi】su9000新型超高分辨冷場發(fā)射掃描電鏡采取了全新改進的真空系統(tǒng)和電子光學(xué)系統(tǒng),不僅分辨率性能明顯提升,而且作為一款冷場發(fā)射掃描電鏡甚至不需要傳統(tǒng)意義上的flashing操作,可以高效率的快速獲取樣品超高分辨掃描電鏡圖像。
更新時間:2025-07-31
日立高分辨鎢燈絲掃描電鏡SU3800
日立高分辨鎢燈絲掃描電鏡su3800采用全新的hexbias偏壓技術(shù),使其低電壓性能大大提升,同時升級的高靈敏度背散射探測器和可變壓力探測器使得su3800的觀察能力進一步提升。
更新時間:2025-07-31
日立透射電鏡HT7820
日立透射電鏡ht7820 繼承了標(biāo)準(zhǔn)版ht7800高速cmos熒光屏相機設(shè)計、全數(shù)字化、大集成等優(yōu)點和創(chuàng)新點,仍然采用第二代雙隙物鏡的設(shè)計,設(shè)計使用高分辨物鏡,標(biāo)配lab6燈絲,性能實現(xiàn)突破性提升。
更新時間:2025-07-31
超高分辨肖特基場發(fā)射掃描電鏡
su7000不僅可以在低加速電壓下獲得高畫質(zhì)圖像,而且還可以同時接收多種信號。此外,它還具備大視野觀察、in-situ觀察等fe-sem的眾多卓越性能。su7000是一臺實現(xiàn)了信息獲取量大化的新型掃描電鏡,可以滿足客戶的多種觀察需求。
更新時間:2025-07-31
熱場式場發(fā)射掃描電鏡
創(chuàng)新的“em wizard”界面更加直觀,僅需要“點擊”即可得到完美的圖像。超的電腦輔助技術(shù)將電鏡的操作與控制提升到一個新水平。
更新時間:2025-07-31
超高分辨率場發(fā)射掃描電子顯微鏡
門為電子束敏感樣品和需大300萬倍穩(wěn)定觀察的先進半導(dǎo)體器件,高分辨成像所設(shè)計。
更新時間:2025-07-31
超高分辨場發(fā)射掃描電子顯微鏡
現(xiàn)有機型su8240,su8230,su8220及su8010重新整合,衍生而成regulus8240、regulus8230、regulus8220、regulus8100。
更新時間:2025-07-31
蔡司場發(fā)射掃描電子顯微鏡
sigma是一款具有 gemini 鏡筒設(shè)計,用于成像及分析應(yīng)用的高性能熱場發(fā)射掃描電鏡。gemini 鏡筒的特點是高亮度肖特基場發(fā)射電子源、電子束加速器和 in-lens 二次電子探測器。在獲得高成像質(zhì)量的基礎(chǔ)上還具有良好的易用性。
更新時間:2025-07-30
日立高新熱場式場發(fā)射掃描電鏡
日立高新技術(shù)公司(以下簡稱:日立高新)8月4日開始發(fā)售的肖特基式場發(fā)射掃描電子顯微鏡“su5000“,搭載了全新的用戶界面和“em wizard“,無論用戶的操作技巧是否嫻熟都可以拍出好的照片。
更新時間:2025-07-22
飛納臺式掃描電鏡 Phenom 超大樣品臺
超大樣品臺(標(biāo)配,僅適用于 phenom xl)phenom xl 電鏡腔室由原來的 32 mm 擴容為 100 mm x 100 mm,一次可容納至多 36 個 1/2 英寸樣品臺樣品最大尺寸:長 100 mm;寬 100 mm;高度 65 mm用這個樣品臺可以對各種各樣的樣品成像
更新時間:2025-07-14
廣州AKERSTROMS 發(fā)射器 940341-000
廣州akerstroms 發(fā)射器 940341-000
更新時間:2025-07-13
AKERSTROMS 發(fā)射器 940341-000
akerstroms 發(fā)射器 940341-000
更新時間:2025-07-13
掃描電鏡RISE
掃描電鏡rise — 拉曼成像與掃描電子聯(lián)用顯微鏡(拉曼-sem)
更新時間:2025-07-12
日立高新熱場式場發(fā)射掃描電鏡
日立高新熱場式場發(fā)射掃描電鏡這次新開發(fā)的"su5000"對用戶沒有任何操作技巧上的要求,通過”em wizard“只要選擇好觀察目的就可以得到好照片。"em wizard"以人為本的設(shè)計理念使電鏡的操作性大幅上升,對于用戶來說,再也不用去討論該用什么條件進行觀察,只要按照觀察目的選擇”表面細(xì)節(jié)觀察“或是”成分分布“等就可以自動將適合的觀察條件設(shè)置好。除此之外,使用經(jīng)驗豐富的操作人員也可以像往常一樣
更新時間:2025-07-10
SU8700  日立肖特基場發(fā)射掃描電鏡
日立肖特基場發(fā)射掃描電鏡su8700fe-sem獲得的圖像分辨率高,信息豐富,樣品處理相對簡單,并且它可以觀察、測量并分析樣品的細(xì)微結(jié)構(gòu),因此被廣泛應(yīng)用于納米技術(shù)、半導(dǎo)體、電子器件、生命科學(xué)、材料等領(lǐng)
更新時間:2025-07-10
SU5000  日立高新熱場式場發(fā)射掃描電鏡
日立高新熱場式場發(fā)射掃描電鏡su5000--搭載用戶界面,向所有用戶提供高畫質(zhì)圖像--       日立高新技術(shù)公司(以下簡稱:日
更新時間:2025-07-10
日立肖特基場發(fā)射掃描電鏡
日立肖特基場發(fā)射掃描電鏡此外,為一次性獲取大量信息,單次掃描像素擴展到了40,960 x 30,720(選配),是之型號的64倍。利用這一功能,可憑借一張數(shù)據(jù)圖像有效評估多處局部的細(xì)微結(jié)構(gòu)。在fe-sem的觀察和分析中,需要根據(jù)測量樣品與需求調(diào)整觀察條件。調(diào)整所需時間的長短取決于用戶的操作熟練度,這是造成數(shù)據(jù)質(zhì)量與效率差異的因素之一。此系列產(chǎn)品標(biāo)配自動調(diào)整功能,可避免人為操作導(dǎo)
更新時間:2025-07-10
日立大型掃描電鏡
日立大型掃描電鏡近年來為了實現(xiàn)各種材料的高功能化和高性能化,需要觀察并優(yōu)化材料的微細(xì)結(jié)構(gòu)。目sem的應(yīng)用除了以往的研究開發(fā)以外,已擴展到質(zhì)量和生產(chǎn)管理方面,使用頻率日益高漲。同時市場也對儀器的操作性能提出了更高的要求,以進一步減輕操作人員的負(fù)擔(dān)  此次發(fā)
更新時間:2025-07-10
日立臺式掃描電鏡
可根據(jù)不同樣品設(shè)置不同的觀察條件 樣品倉內(nèi)的真空度及加速電壓有多種選擇,可根據(jù)需求自行設(shè)置。簡化尋找視野、圖像拍攝、圖像確認(rèn)等一系列操作過程(選配) 在樣品倉上可選配光學(xué)相機,樣品開始觀察先拍攝樣品的整體照片,雙擊照片上的樣品,即可實現(xiàn)照片導(dǎo)航功能。
更新時間:2025-07-10
SU3800  日立中型掃描電鏡
 日立中型掃描電鏡su38001) 支持超大/超重樣品測試  可搭載的 大樣品尺寸:“su3800” 標(biāo)配可搭載直徑200mm樣品的樣品倉,可應(yīng)對 大高度為80mm、重量為2k
更新時間:2025-07-10
TM4000 II / TM4000Plus I  日立臺式掃描電鏡
日立臺式掃描電鏡tm4000 ii / tm4000plus i臺式顯微鏡作為掃描電子顯微鏡(sem)在生物技術(shù)和材料等領(lǐng)域得到廣泛應(yīng)用。該系列由日立高新技術(shù)于2005年4月開始銷售,可放在辦公桌上,
更新時間:2025-07-10
SU3900  日立大型掃描電鏡
日立大型掃描電鏡su3900在以納米技術(shù)和生物技術(shù)為主的產(chǎn)業(yè)領(lǐng)域里,從物質(zhì)的微細(xì)結(jié)構(gòu)到組成成分,sem在多種多樣的觀察與分析中得到了靈活應(yīng)用。sem用途日益擴大,但對于鋼鐵等工業(yè)材料和汽車零配件等超大
更新時間:2025-07-10
ZEISS EVO18鎢燈絲掃描電鏡
zeiss商業(yè)化電鏡的歷史和經(jīng)驗已超過60年,其技術(shù)先進、性能卓越,在失效分析以及各種分析研究中具有廣泛的應(yīng)用。zeiss不斷追求、推出新的技術(shù)和新的產(chǎn)品,使其成為不僅可拍攝高分辨率圖像,還可以完成各種各樣的分析研究,更加體現(xiàn)zeiss電子顯微鏡高價值 和高利用性。
更新時間:2025-07-05
ZEISS ΣIGMA熱場發(fā)射掃描電鏡
zeiss σigma 電鏡為肖特基(schottky)熱場發(fā)射掃描電鏡。目前歐美地區(qū)比較推崇熱場發(fā)射電鏡,而日本較熱衷于冷場發(fā)射電鏡。該場發(fā)射掃描電鏡主要有如下特點:
更新時間:2025-07-05
飛納臺式掃描電鏡 Phenom 標(biāo)準(zhǔn)金相樣品杯
設(shè)計用于冶金/金相樣品的觀察(鑲嵌在樹脂里)最大尺寸:直徑32mm;高度30mm
更新時間:2025-06-27
 飛納臺式電鏡 Phenom 微型電子器件插件
微型電子元器件插件是設(shè)計用來最小化制樣時間的。插件配合金相樣品杯使用。
更新時間:2025-06-27
飛納臺式掃描電鏡 Phenom  X 斷面觀測插件
微型電子元器件插件是設(shè)計用來最小化制樣時間的。插件配合金相樣品杯使用。
更新時間:2025-06-27
飛納臺式掃描電鏡 Phenom Pure
第六代 phenom pure 是一款使用高亮度 ceb6 燈絲的高分辨臺式掃描電鏡。放大倍數(shù) 175,000 倍,用于觀察納米或者亞微米樣品的微觀結(jié)構(gòu);诟吡炼 ceb6 燈絲和全新的聚焦系統(tǒng),phenom pure 的分辨率輕松達到 10 nm,同時具有全自動操作、15 快速抽真空、不噴金觀看絕緣體、2-3 年更換燈絲等特點。
更新時間:2025-06-27
飛納臺式掃描電鏡Phenom Pure
第六代 phenom pure 是一款使用高亮度 ceb6 燈絲的高分辨臺式掃描電鏡。放大倍數(shù) 175,000 倍,用于觀察納米或者亞微米樣品的微觀結(jié)構(gòu);诟吡炼 ceb6 燈絲和全新的聚焦系統(tǒng),phenom pure 的分辨率輕松達到 10 nm,同時具有全自動操作、15 快速抽真空、不噴金觀看絕緣體、2-3 年更換燈絲等特點。
更新時間:2025-06-27
臺式場發(fā)射掃描電鏡
秉承飛納臺式掃描電鏡系列全自動操作、快速成像、不噴金觀看不導(dǎo)電樣品、完全防震、性能穩(wěn)定的特點,荷蘭飛納公司推出第二代肖特基場發(fā)射電子源臺式掃描電鏡 phenom pharos g2, 集背散射電子成像、二次電子成像和能譜分析功能于一體。高亮度肖特基場發(fā)射電子源,使用戶可以輕松獲得高分辨率圖像,分辨率優(yōu)于 1.5nm
更新時間:2025-06-27
LightAuto明場成像
暗明場成像原理:晶體薄膜樣品明暗場成像的襯度(即不同區(qū)域的亮暗差別),是由于樣品相應(yīng)的不同部位結(jié)構(gòu)或取向的差別導(dǎo)致衍射強度的差異而形成的,因此稱其為衍射襯度,以衍射襯度機制為主而形成的圖像稱為衍襯像。如果只允許透射束通過物鏡光欄成像,稱其為
更新時間:2025-06-26
透射電鏡(TEM)用氮化硅薄膜窗口
shnti的x-射線薄膜窗能夠?qū)崿F(xiàn)軟x-射線(如真空紫外線)的最大透射率。主要用于同步輻射x射線透射顯微成像時承載樣品。 x-射線越軟(能量越低),穿透能力越差,所需氮化硅薄膜窗越薄。特別在“離軸”狀態(tài)工作(即薄膜與光束成一定角度)時,也需要較薄的薄膜窗口,便于x射線更好地穿透。
更新時間:2025-06-25

最新產(chǎn)品

熱門儀器: 液相色譜儀 氣相色譜儀 原子熒光光譜儀 可見分光光度計 液質(zhì)聯(lián)用儀 壓力試驗機 酸度計(PH計) 離心機 高速離心機 冷凍離心機 生物顯微鏡 金相顯微鏡 標(biāo)準(zhǔn)物質(zhì) 生物試劑